HPSP 기업 분석 및 주가 전망 알아보기

HPSP 기업 분석 및 주가 전망이 궁금하신 분은 한 번 알아보시기 바랍니다. HPSP의 사업 개요, HPSP만의 경쟁력을 알아보고, 실적 분석, 차트 분석을 통해 주가 전망에 대해 알아보도록 하겠습니다.

 

 

기업 분석

사업 개요

HPSP는 고유전율(High-K) 절연막을 사용하는 트랜지스터의 계면특성을 개선하는 고압 수소 어닐링 장비를 연구, 개발, 제조, 판매하는 전문 기업입니다.

 

HPSP의 장비는 반도체 소자 계면의 문제를 해결하기 위해 개발되었으며, 특히 28 나노미터 이하 공정에서 발생하는 누설전류를 막기 위한 High-K 소재(HfO2, 하프늄옥사이드)를 채택하였습니다. 하지만, 이 High-K 소재의 사용은 Interface Defect 발생 수준을 기존 SiO2 대비 100배 증가시키는 단점이 있습니다.

 

이를 극복하기 위해 HPSP는 고압에서 가스 농도를 높여 저온 공정을 가능하게 하는 고압 어닐링(High Pressure Annealing, HPA) 공정을 도입하였습니다. 이 공정은 수소(H2)/중수소 (D2)를 이용한 화학 작용을 통해 Interface Defect에 H-Si (Hydrogen-Silicon) bonding을 형성하여 전기적으로 비활성화함으로써 반도체의 성능을 개선하게 됩니다.

 

HPSP의 GENI-SYS 장비는 이러한 기술을 활용하였으며, 전 세계 고압 관련 인증을 받아 메이저 고객사의 양산 공정에서 가동 중입니다. 28/32㎚ 이하의 적용 공정에 필수적으로 권장되며, 글로벌 반도체 업체들의 지속적인 공정 미세화로 인해 향후 주요 수혜업체가 될 것으로 예상됩니다.

 

HPSP만의 경쟁력

기술의 완성도

HPSP의 GENI-SYS는 미세화된 반도체 전공정의 계면 문제를 개선하기 위해 개발된 고압 수소 어닐링 장비입니다. High-K 소재의 사용으로 유전율은 5배 향상되었지만, 그에 따른 계면의 defect 발생 문제를 해결하기 위해 고압 수소 어닐링 방식을 도입하였습니다.

 

HPSP는 전 세계적으로 유일하게 이러한 고압 어닐링 솔루션을 보유하고 있으며, 고압에서 가스 농도를 높여 저온 공정이 가능하게 하여 고객사의 수율을 획기적으로 개선하였습니다. HPSP는 20~25 기압의 압력 수준과 최대 100%의 수소농도를 달성할 수 있는 기술을 보유하고 있습니다. 이러한 원천 기술로 국내 반도체 장비업체 중에서도 다수의 고객을 확보하고 있습니다.

 

기술의 경쟁우위

GENI-SYS 제품은 기존의 저압, 고열 어닐링 장비와는 다르게, 450℃ 이하의 온도 환경에서 100% 수소농도를 유지하는 독자적인 기술력을 보유하고 있습니다. 고압 수소 어닐링 기술은 고압 용기 운영 노하우와 고압 인증이 필요하며, 이를 바탕으로 안정성을 높여 고객사의 신뢰를 얻었습니다.

 

HPSP의 제품은 성능과 안정성 면에서 경쟁 제품이 없으며, 기존 고압 어닐링 기술의 개선과 새로운 기술의 도입을 통해 기술 격차를 더욱 확대하고 있습니다. 2-3년마다 신기능을 추가한 장비를 출시하여 기술력을 지속적으로 강화하고 있습니다.

주가 전망

실적 분석

HPSP의 4Q23 실적 예상치는 매출액 305억 원(-27% QoQ), 영업이익 121억 원(-44% QoQ)으로 전분기 대비 감소할 것으로 보입니다. 이는 고객사들의 보수적인 설비 투자 기조 지속과 메모리 고객사향 공급의 원활하지 못한 진행 때문입니다. 비메모리 고객사향 장비 공급이 주를 이루었으며, 이는 전분기 대비 약 30% 감소한 것으로 보입니다.

 

증권사 애널리스트에 따르면 올해 실적 예상치는 매출액 2,134억 원(+21% YoY), 영업이익 1,123억 원(+18% YoY)으로, 시장 기대치보다 다소 낮게 전망됩니다. 이는 반도체 업계의 보수적인 설비투자 기조가 계속되고 있고, 비메모리에서 메모리로의 장비 확산이 예상보다 더디게 진행되는 것이 주요 원인입니다.

 

그러나 HPSP의 중장기 성장 모멘텀은 여전히 강하다고 판단됩니다. 메모리로의 장비 도입 확대는 장비의 역할과 독점성을 고려할 때 단지 시점의 문제일 뿐입니다. 신규 장비 고압 Oxidation에 대한 고객사 테스트는 다소 지연되고 있지만, 하반기 중에는 유의미한 결과를 확인할 수 있을 것으로 보입니다.

 

증권사 애널리스트에 따르면 목표주가는 56,000원을 제시하고 있습니다. 이는 '25년 예상 EPS를 산정 기준으로 한 것이라고 합니다. 그렇기 때문에 현재 주가는 단기적으로 부담을 줄 수 있는 상황으로 보고 있는 것 같습니다. 이에 대한 근거로는 올해 실적 기준 P/E 42.X를 그 이유로 들었습니다. 이에 따라 업종 내 다른 업체들과 봤을 때 밸류에이션 괴리가 존재할 수 있다는 것입니다.

 

차트 분석

하지만, 실적대로 따라가지 않는 것이 주가입니다. 그렇기 때문에 차트 분석을 통해 가치가 아닌 가격 분석 또한 해봐야 할 것입니다. 아래는 HPSP의 일봉 차트입니다.

 

HPSP의 주가는 중, 장기 이평선 정배열을 지속 유지하며 신고가 돌파 및 조정을 반복하며 우상향 하는 전형적인 성장주의 차트를 보여왔습니다. 최근의 주가 또한 올해 2월 15일 역사적 신고가인 63,900원을 찍고 되돌림 자리인 51,000원 수준까지 조정 후 지지선에서 반등을 하고 있는 모습을 보이고 있습니다.

 

정말 정직한 포인트에서 매수 타이밍을 주는 종목이라고 생각이 듭니다. 현재 역사적 신고가와 지지선의 중간 자리쯤 위치해 있는데, 조만간 역사적 신고가 돌파를 도전하러 가지 않을까 싶습니다. 혹시 HPSP의 투자가 고민되는 분이시라면 돌파매매 관점으로 접근하시길 추천드립니다.

HPSP 일봉 차트

 

HPSP의 기업 분석 및 주가 전망에 대해 알아보았습니다. 해당 내용은 지극히 개인적인 의견이며 단순 참고하시고, 투자에 대한 책임은 오로지 투자자 본인에게 있음을 알립니다.

 

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